Đề tài Tìm hiểu phương pháp nhiễu xạ tia X

Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** TÌM HIỂU PHƯƠNG PHÁP NHIỄU XẠ TIA X: I- Tia X: Tia X là bức xạ điện từ năng lượng cao, chúng có nặng lượng trong khoảng từ 200ev đến 1Mev hay bước sóng trong khoảng từ 10-8m đến 10- 11m. II- Cách tạo ra tia X: Tia X được phát ra khi các điện tử hoặc các hạt mang điện khác bị hãm bởi một vật chắn và xuất hiện trong quá trình tương tác giữa bức xạ với vật chất. Thông thường để tạo ra tia X người ta sử dụng điện tử vì để gia tốc điện tử đòi hỏi điện thế nhỏ hơn so với các trường hợp dùng các hạt mang điện khác. Tia X được tạo ra trong ống phát Rơn ghen thường làm bằng thuỷ tinh hay thạch anh có độ chân không cao, trong đó có hai điện cực catốt bằng vofram hay bạch kim sẽ phát ra điện tử và anốt dạng đĩa nghiêng 450 so với tia tới ( xem hình vẽ H1 và H2): H1: Hình vẽ mặt cắt cấu tạo của ống phát tia X: H2: ống phát tia X: (vật thật) Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Các điện tử được tạo ra do nung nóng catot . Giữa catot và anot có một điện áp cao nên các điện tử được tăng tốc với tốc độ lớn tới đập vào anot . Nếu điện tử tới có năng lượng đủ lớn làm bứt ra các điện tử ở lớp bên trong nguyên tử của anot thì nguyên tử sẽ ở trạng thái kích thích với một lỗ trống trong lớp điện tử. Khi lỗ trống đó được lấp đầy bởi một điện tử của lớp bên ngoài thì photon tia X với năng lượng bằng hiệu các mức năng lượng điện tử được phát ra. Nếu toàn bộ năng lượng của điện tử đều chuyển thành năng lượng của photon tia X thì năng lượng photon tia X được liên hệ với điện thế kích thích v theo hệ thức: E = hc  = ev hc ev   . Khi đó photon tia X có năng lượng lớn nhất hay bước sóng ngắn nhất là: swl = hc  Thực tế, chỉ khoảng 1% năng lượng của tia điện tử được chuyển thành tia X, phần lớn bị tiêu tán dưới dạng nhiệt làm anot nóng lên- và người ta phải làm nguội anot bằng nước. H3: hình vẽ phác họa cơ chế bức xạ tia X và công thức tính bước Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** • Tớnh chất của tia X: - Khả năng xuyờn thấu lớn. - Gõy ra hiện tượng phỏt quang ở một số chất. - Làm đen phim ảnh, kớnh ảnh. - Ion húa cỏc chất khớ. - Tỏc dụng mạnh lờn cơ thể sống, gõy hại cho sức khỏe. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** H4: Giải bước sóng ( tương ứng với tần số) của ánh sáng- Thang sóng điện từ. III- Nhiễu xạ tia X: 1- Hiện tượng nhiễu xạ: Nhiễu xạ là đặc tính chung của các sóng- là tập hợp của các tán xạ đàn hồi ( sau tán xạ bước sóng không đổi) đặc biệt từ các điểm khác nhau của tinh thể đảm bảo điều kiện là các tia trong quá trình này giao thoa khuếch đại lên nhau. Nếu tia X chiếu vào nguyên tử làm các điện tử dao động xung quanh vtcb của chúng, khi điện tử bị hãm thì phát xạ tia X. Quá trình hấp thụ và tái phát bức xạ điện tử này được gọi là tán xạ, hay nói cách khác photon của tia X bị hấp thụ bởi nguyên tử và photon khác có cùng năng lượng được tạo ra. Khi không có sự thay đổi về năng lượng giữa photon tới và photon phát xạ thì tán xạ là đàn hồi, ngược lại nếu mất năng lượng photon thì tán xạ không đàn hồi. Khi hai sóng rọi vào nguyên tử ( có nhiều điện tử) mà chúng bị tán xạ bởi điện tử theo hướng tới . Hai sóng phản xạ theo hướng tới cùng pha tại mặt phẳng tới vì chúng có cùng quãng đường đi trước và sau tán xạ.Nếu cộng hai sóng này sẽ được một sóng có cùng bước sóng nhưng có biên độ gấp đôi. Các sóng tán xạ theo các hướng khác sẽ không cùng pha tại mặt sóng nếu hiệu quang trình không bằng một số nguyên lần bước sóng. Nếu ta cộng hai sóng này thì biên độ sẽ nhỏ hơn biên độ sóng tán xạ theo hướng tới. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Như vậy, các sóng tán xạ từ mỗi nguyên tử sẽ giao thoa với nhau, nếu các sóng cùng pha thì xuất hiện giao thoa tăng cường, nếu lệch pha 1800 thì giao thoa triệt tiêu. H5: Máy nhiễu xạ tia X: ( vật thật). H6: Cấu tạo cơ bản của máy phát nhiễu xạ tia X: Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** 2- Chỉ số Miller của mặt tinh thể: Chỉ số Miller của mặt phẳng tinh thể được xác định là nghịch đảo giao điểm phân số của mặt tinh thể cắt trên trục tinh thể x,y và z của ba cạnh không song song của ô cơ bản. Chỉ số Miller được xác định như sau: - Chọn một mặt phẳng không đi qua gốc tọa độ (0,0,0). - Xác định các tọa độ giao điểm của mặt phẳng với các trục x, y và z của ô đơn vị. Tọa độ giao điểm đó sẽ là các phân số. - Lấy nghịch đảo các tọa độ giao điểm này. - Quy đồng các phân số này và xác định tập nguyên nhỏ nhất của các tử số. Các số này chính là chỉ số Miller, kí hiệu là h,k và l. Một bộ chỉ số (hkl) biểu diễn kgông phải một mặt phẳng mà là biểu diễn một họ các mặt phẳng song song nhau. Trong cấu trúc tinh thể khoảng cách giữa các mặt phẳng song song gần nhau nhất có cùng chỉ số Miller được kí hiệu là dhkl trong đó h,k,l là chỉ số Miller của các mặt. Từ hình học ta có thể thấy rằng khoảng cách dhkl giữa các mặt lân cận song song trong tinh thể lập phương là: 2 1 hkld = 2 2 2 2 h k l a   Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** với a độ dài véc tơ cơ sở của mạng lập phương( còn gọi là hằng số mạng). Các mặt phẳng (hkl) và (nh nk nl) , n là số nguyên, là song song nhau, nhưng khoảng cách giữa các mặt phẳng của mặt phẳng (nh nk nl) bằng 1/n khoảng cách giữa các mặt phẳng (hkl). 2- Định luật Bragg: Khi chiếu tia X vào vật rắn tinh thể thì xuất hiện các tia nhiễu xạ với cường độ và hường khác nhau. Các hướng này bị khống chế bởi bước sóng của bức xạ tới và bởi bản chất của mẫu tinh thể. Định luật Bragg được thiết lập năm 1913 thể hiện mỗi quan hệ giữa bước sóng tia X và khoảng cách giữa các mặt phẳng nguyên tử để xẩy ra hiện tượng nhiễu xạ. Giả sử có hai mặt phẳng nguyên tử song song AA’ và BB’ có cùng chỉ số Miller h,k,l và cách nhau bởi khoảng cách giữa các nguyên tử dhkl .Để đơn giản, cho mặt phẳng tinh thể của các tâm tán xạ nguyên tử được thay thế bằng mặt tinh thể đóng vai trò như mặt phản xạ gương đối với tia X tới. Giả sử hai tia x 1 và 2 đơn sắc,song song với bước sóng chiếu vào hai mặt phẳng này dưới một góc . Hai tia bị tán xạ bởi nguyên tử P và Q cho hai tia phản xạ 1’ và 2’ cũng dưới một góc so với mặt phẳng này(xem hình vẽ). Sự giao thoa của tia X tán xạ 1’ và 2’ xẩy ra nếu hiệu quãng đường 1P1’ và 2Q2’ tức là đoạn SQ+QT bằng một số nguyên lần bước sóng. Như vậy điều kiện nhiễu xạ là: n = SQ+QT hay n = 2dhklsin với n= 1,2,3…. gọi là bậc phản xạ. (1) Phương trình (1) chính là định luật Bragg biểu thị mỗi quan hệ giữa góc của tia nhiễu xạ với bước sóng của tia tới và khoảng cách giữa các mặt phẳng nguyên tử dhkl để xẩy ra hiện tượng nhiễu xạ trên tinh thể. Nếu định luật Bragg không được thảo mãn thì sự giao thoa thực chất sẽ không xẩy ra vì cường độ nhiễu xạ thu được là rất nhỏ. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** H7: Mô phỏng quá trình tán xạ tia X trên mạng tinh thể. VI- Mạng đảo: Khi nghiên cứu cấu trúc tinh thể bằng phương pháp nhiễu xạ tia X thì bức tranh thu được chỉ là ảnh của chùm tia bị tinh thể nhiễu xạ chữ không phải là ảnh chụp cách sắp xếp các nguyên tử trong tinh thể. Bức tranh này chính là hình ảnh mạng đảo của tinh thể và từ đó ta phải suy ra mạng thuận( mạng thực). Liên hệ giữa mạng thuận và mạng đảo: G.R = 2.số nguyên (2) Với R là véctơ tịnh tiến của mạng thuận , G là véctơ của mạng đảo. Hoặc: nếu gọi a,b,c và a*,b*,c* là các véctơ đơn vị của ô cơ bản trong mạng thuận và mạng đảo, ta có: a*.a = b*.b = c*.c = 1 và a*.b=b*.c=c*.a = 0. (3) tức là véc tơ a* vuông góc với b và c; b* vuông góc với a và c; c* vuông góc với a và b. Mạng đảo có tính chất quan trọng sau đây: - Mỗi nút mạng đảo tương ứng với một mặt phẳng (hkl) của tinh thể. - Véc tơ mạng đảo ghkl = ha*+kb*+lc* vuông góc với mặt phẳng mạng(hkl) của mạng tinh thể và ghkl = 1 hkld . (4) - Mạng đảo của mạng đảo là mạng thực của tinh thể đã cho. Sự nhiễu xạ tia X có thể được dự đoán nhờ mạng đảo bằng cách xây dựng hình cầu Ewald, dựa trên cơ sở: Các điểm cuối của cả hai véc tơ sóng tới k và véc tơ sóng phản xạ k’ đều phải nằm trên hai nút của mạng đảo (điều này được suy ra từ định luật Bragg). Hình cầu Ewald được xây dựng như sau: - Xuất phát từ điểm cuối của k ,vẽ véc tơ k để tìm ra điểm đầu của nó. - Lấy điểm đầu của k làm tâm,vẽ hình cầu bán kính k , hình cầu này cắt mạng đảo ở nút mạng nào thì đó chính là điểm cuối của k’. Ta có phương trình: G = k’ – k (5) Đối với một tinh thể cho trước,ta có nhận xét về hình cầu Ewald như sau: - Hình cầu Ewald có thể cắt mạng đảo không chỉ ở một điểm. Điều này tương ứng với phản xạ Bragg trên nhiều họ mặt phẳng đối với cùng một chùm tia tới. - Với lớn tương ứng với k nhỏ,ta sẽ có hình cầu Ewald có bán kính nhỏ hơn. Và rõ ràng không tồn tại nút mạng đảo nằm ngoài mặt cầu bán kính 2/ có thể cắt mặt cầu Ewald, do đó không thể xẩy ra hiện tượng nhiễu xạ tia x , bởi vậy mặt cầu bán kính 2/ là mặt cầu giới hạn. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Như vậy, mỗi cấu trúc tinh thể có hai mạng liên hợp với nó, mạng tinh thể(mạng thuận) và mạng đảo. ảnh nhiễu xạ của tinh thể là một bức tranh mạng đảo của tinh thể. Hai mạng này liên hệ với nhau theo hệ thức (3). Do vậy, khi ta quay tinh thể trong giá đỡ ta quay cả mạng thực và mạng đảo. Các véc tơ trong mạng thực có thứ nguyên là: chiều dài, các véc tơ trong mạng đảo có thứ nguyên là: 1/chiều dài. V- Cường độ nhiễu xạ tia X: Nhiễu xạ tia X đã chứng tỏ được khả năng ứng dụng rất hiệu quả trong phân tích vi cấu trúc của vật liệu bởi lẽ nó có thể tính toán được vị trí cũng như cường độ tương đối của tia nhiễu xạ với độ chính xác cao. Do đó có thể so sánh các giá trị tính toán với các giá trị đo được để xác định các thông số mạng và vì thế xác định được các loại mạng tinh thể. Ngày nay dựa vào ảnh nhiễu xạ chúng ta đã xác định được hầu hết cấu trúc của các hợp chất. Để tính toán cường độ nhiễu xạ cách đơn giản nhất là ta cộng các sóng hình sin với biên độ và pha khác nhau. Quá trình xác định cường độ nhiễu xạ tia X được tiến hành theo ba bước sau: - Nhiễu xạ tia X bởi một điện tử tự do. - Nhiễu xạ tia X bởi một nguyên tử. - Nhiễu xạ tia X bởi ô mạng cơ bản. a) Tán xạ bởi một điện tử: Thomson đã chứng minh được công thức xác định ccường độ tán xạ tia x bởi một điện tử tại khoảng cách r kể từ điện tử có điện tích e và khối lượng m là: I = I0 4 2 2 4 e r m c .sin22. (6) Trong đó I0 cường độ tia X tới; c là tốc độ ánh sáng; 2 là hướng tán xạ. b) Tán xạ bởi một nguyên tử: Nguyên tử gồm có hạt nhân tích diện dương và các điện tử tích điện âm bao quanh. Tia x bị tán xạ bởi điện tử và hạt nhân. Tuy nhiên, phương trình (6) cho thấy rằng vì khối lượng của hạt nhân rất lớn gấp hàng nghìn lần khối lượng của điện tử nên có thể bỏ qua tán xạ tia tới bởi hạt nhân. Do đó tán xạ toàn phần trên một nguyên tử chủ yếu là do tán xạ của tất cả các điện tử riêng biệt. Theo hướng thẳng sự tán xạ sẽ bằng tổng tán xạ bởi từng điện tử riêng biệt, tuy nhiên điều đó không áp dụng được cho các hướng khác vì các điện tử ở các vị trí khác nhau quanh hạt nhân sẽ sinh ra sóng tán xạ với pha khác nhau và sẽ giao thoa với nhau. Đại lượng thừa số tán xạ nguyên tử f được sử Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** dụng để mô tả hiệu suất tán xạ trên một hướng riêng biệt và được xác định bằng tỷ số sau: f = tan tan bien do song xaboi mot nguyen tu bien do song xaboi mot dientu (7) Giá trị f bằng số điện tử trong nguyên tử khi = 0, hay f = Z là nguyên tử số, song giá trị này giảm khi tăng hay giảm. c) Nhiễu xạ bởi ô mạng cơ bản: Bây giờ ta hãy xem xét ảnh hưởng của vị trí nguyên tử trong ô cơ bản đến biên độ sóng tán xạ. Vì ô cơ bản là phần tử nhỏ nhất lặp lại tuần hoàn tạo thành tinh thể nên đây là bước cuối cùng trong trình tự xác định cường độ của tia nhiễu xạ. Phương pháp tính toán cũng tương tự như đối với tán xạ bởi các điện tử tại các vị tí khác nhau trong nguyên tử song ở đây có sự khác pha do nguyên tử ở các vị trí khác nhau trong ô cơ bản.  Cường độ nhiễu xạ: Cường độ chùm tia nhiễu xạ được cho bởi công thức: Với là hàm súng của chựm nhiễu xạ, cũn là thừa số cấu trỳc (hay cũn gọi là xỏc suất phản xạ tia X), được cho bởi: ở đây, véctơ tỏn xạ của chựm nhiễu xạ, là vị trớ của nguyờn tử thứ i trong ô đơn vị, cũn fi là khả năng tán xạ của nguyên tử. Tổng được lấy trên toàn ô đơn vị. PHẦN II: NGHIÊN CỨU CẤU TRÚC VẬT LIỆU: PHƯƠNG PHÁP PHÂN TÍCH BẰNG TIA X NHIỄU XẠ TIA X HUỲNH QUANG TIA X PHÂN TÍCH CẤU TRÚC VẬT LIỆU XÁC ĐỊNH HÀM LƯỢNG NGUYÊN TỐ TRONG MẪU Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** I- Nhiễu xạ đơn tinh thể: Hai phương pháp chính để thực hiện nhiễu xạ đơn tinh thể là phương pháp ảnh Laue và phương pháp xoay đơn tinh thể. Để thỏa mãn điều kiện nhiễu xạ Bragg n = 2dhklsin , trong phương pháp xoay đơn tinh thể chùm tia x đơn sắc ( = const) được chiếu lên đơn tinh thể quay( thay đổi) quanh một phương tinh thể nào đó, trong phương pháp ảnh Luae chùm bức xạ với phổ liên tục ( thay đổi) được rọi lên đơn tinh thể đứng yên ( =const) . 1- Sau đây ta tìm hiểu nguyên lí tạo ảnh nhiễu xạ và một số ứng dụng của phương pháp ảnh Laue: Chùm tia X liên tục được chiếu lên mẫu đơn tinh thể và tia nhiễu xạ được ghi nhân bởi các vết nhiễu xạ trên phim . Bức xạ tia X liên tục sẽ cho giải bước sóng cần thiết và chắc chắn thỏa mãn định luật Bragg cho mọi mặt phẳng. H8: A-Một chùm tia X được hội tụ và chiếu lên mẫu vật. B- Phổ nhiễu xạ. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** H9: ảnh nhiễu xạ gồm một loạt vết đặc trưng cho tính đối xứng của tinh thể. H10: ảnh nhiễu xạ của đơn tinh thể. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Trên ảnh Laue ta thấy các vết nhiễu xạ phân bố theo các đường cong dạng elip,parbon hay hypebon đi qua tâm ảnh. Các đường cong này gọi là các đường vùng bởi mỗi đường cong đó chứa các vết nhiễu xạ của các mặt thuộc một vùng mặt phẳng trong tinh thể. Có thể lí giải hiện tượng này nhờ khái niệm mạng đảo. Như ta biết, một vùng mặt phẳng gồm các mặt tinh thể cắt nhau theo một giao tuyến chung gọi là trục vùng và véc tơ mạng đảo ghkl vuông góc với mặt (hkl) tương ứng trong mạng tinh thể. Như thế véc tơ ghkl phải vuông góc với trục vùng [uvw] . Bởi vậy các véctơ ghkl hay các pháp tuyến của các mặt phẳng thuộc vùng sẽ cùng nằm trên một mặt phẳng vuông góc với trục [uvw] của vùng. Bằng phương pháp vẽ cầu Ewald dễ dàng thấy rằng mặt phẳng pháp tuyến đó của một vùng sẽ cắt cầu Ewald theo một đường tròn giao tuyến và chỉ những nút đảo nằm trên giao tuyến này mới cho tia nhiễu xạ. Như vậy, các tia nhiễu xạ sẽ tạo nên một hình tròn tia có trục là trục vùng và góc mở là 2 , trong đó  là góc tạo bởi tia X với trục vùng ( xem hình vẽ H11). Giao tuyến của nón tia nhiễu xạ với phim chính là dạng hình học của các đường vùng trên ảnh Laue. Khi  < 450 đường vùng có dạng elíp, đó là ảnh truyền qua của mẫu mỏng. Nếu  = 450 đường vùng là parabon. Khi  > 450 đường vùng có dạng là hypebon và khi  = 900 mặt nón trở thành mặt phẳng, đường vùng là một đường thẳng, đó là ảnh Laue ngược trong trường hợp mẫu dày (xem hình vẽ H12). Bởi vậy, ảnh Laue được tạo nên bởi tập các đường vùng trên đó phân bố các vết nhiễu xạ của các vùng mặt phẳng tương ứng trong tinh thể. Phương pháp ảnh Laue cho phép xác định hướng và tính đối xứng của tinh thể. nh các vết Laue ương Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Ngày nay, phương pháp ghi ảnh nhiễu xạ bằng phim không được phổ biến và một kĩ thuật hiện đại để ghi cường độ với độ nhạy cao và chính xác hơn đã đựơc sử dụng rộng rãi để nghiên cứu đơn tinh thể,đó là nhiễu xạ kế tia X. Kỹ thuật phân tích đơn tinh thể trên nhiễu xạ kế vô cùng phức tạp, tuy nhiên với sự trợ giúp của máy tính thì nhiễu xạ kế tia X đã cho phép xác định tính đối xứng , định hướng tinh thể , hắng số mạng chính xác và các đặc trưng khác của đơn tinh thể, kể cả khi chưa biết trước cấu trúc và các thông số của ô cơ bản. 2- Phương pháp xoay đơn tinh thể: Giữa nguyên bước sóng và thay đổi góc tới. Phim được đặt vào mặt trong của buồng hình trụ cố định. Một đơn tinh thể được gắn trên thanh quay đồng trục với buồng. Chựm tia X đơn sắc tới sẽ bị nhiễu xạ trờn 1 họ mặt nguyờn tử của tinh thể với khoảng cỏch giữa cỏc mặt là d khi trong quỏ trỡnh quay xuất hiện những giỏ trị thỏa món điều kiện Bragg. H13: Máy nhiễu xạ bằng phương pháp xoay đơn tinh thể và cấu tạo cơ bản: Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Phæ nhiễu xạ sẽ là sự phụ thuộc của cường độ nhiễu xạ vào góc quay 2. Thí dụ: dưới đây là phổ của NaCl với catot là Cu, góc quét 2 từ 00 đến 900: tử song II- Phương pháp bột: Kỹ thuật nhiễu xạ tia X được sử dụng phổ biến nhất là phương pháp bột hay phương pháp Debye. Trong kỹ thuật này, mẫu được tạo thành bột với mục đích có nhiều tinh thể có tính định hướng ngẫu nhiên để chắc chắn rằng có một số lớn hạt có định hưóng thỏa mãn điều kiện nhiễu xạ Bragg. H14: phổ nhiễu xạ đơn tinh thể theo H15: Cấu tạo máy nhiễu xạ tia x bằng phương pháp bột. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** H16: hình vẽ cấu tạo máy nhiễu xạ bột. Bộ phận chính của nhiễu xạ kế tia X là: Nguồn tia X, mẫu, detecto tia x. Chúng được đặt nằm trên chu vi của vòng tròn( gọi là vòng tròn tiêu tụ). Góc giữa mặt phẳng mẫu và tia x tới là  - góc Bragg. Góc giữa phương chiếu tia x và tia nhiễu xạ là 2 . Nguồn tia x được giữ cố định còn detecto chuyển động suốt thang đo góc. Bán kính của vòng tiêu tụ không phải là một hằng số mà tăng khi góc 2 giảm. Thang quét 2 thường quay trong khoảng từ 300 đến 1400 , việc lựa chọn thang quét phụ thuộc vào cấu trúc tinh thể của vật liệu. Mẫu được tạo dưới dạng lớp mỏng cỡ vài miligam bột tinh thể trải trên đế phẳng. Tia x đơn sắc được chiếu tới mẫu và cường độ tia nhiễu xạ được thu bằng detecto. Mẫu được quay với tốc độ  còn detecto quay với tốc độ 2 , cường độ tia nhiễu xạ được ghi tự động trên giấy, và từ đó vẽ được giản đồ nhiễu xạ của mâu. Kết hợp với định luật Bragg, ta suy ra được cấu trúc và thông số mạng cho từng pha chứa trong mẫu bột và cường độ của tia nhiễu xạ cho phép xác định sự phân bố và vị trí nguyên tử trong tinh thể. Phương pháp bột cho phép xác định được thành phần hóa học và nồng độ các chất có trong mẫu. Bởi vì mỗi chất có trong mẫu cho trên ảnh nhiễu xạ một pha đặc trưng (cho một hệ vạch nhiễu xạ tương ứng trên giản đồ nhiễu xạ). Nếu mẫu gồm nhiều pha (hỗn hợp) nghĩa là gồm nhiều loại ô mạng thì trên giản đồ nhiễu xạ sẽ tồn tại đồng thời nhiều hệ vạch độc lập nhau. Phân tích các vạch ta có thể xác định được các pha có trong mẫu- đó là cơ sở để phân tích pha định tính. Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** H17: Phổ nhiễu xạ (pic nhiễu xạ) thu được bằng phương pháp bột. Phương pháp phân tích pha định lượng bằng tia x dựa trên cơ sở của sự phụ thuộc cường độ tia nhiễu xạ vào nồng độ. Nếu biết mỗi quan hệ đó và đo được cường độ thì có thể xác định được nồng độ pha. Các pha chưa biết trong vật liệu có thể xác định được bằng cách so sánh số liệu nhận được từ giản đồ nhiễu xạ tia x từ thực nghiệm với số liệu chuẩn trong sách tra cứu, từ đó ta tính đựơc tỷ lệ nồng độ các chất trong hỗn hợp. Đây là một trong những ứng dụng tiêu biểu của phương pháp bột để phân tích pha định lượng. Thí dụ, bằng thực nghiệm ta ghi được phổ đặc trưng tia x của kim loại ở thế 35kv: Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** H18: Đồ thị bước sóng nhiễu xạ của kim loại Mo. Bảng dưới đây cho các giá trị bước sóng đặc trưng của một số kim loại thường làm catot trong phân tích tia x: Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** So sánh hai giá trị ở trên ta suy ra phổ ở trên ứng với kim loại Mo. * H19: Cấu trúc tinh thể và phổ nhiễu xạ tia x của vật liệu LaOFeAs Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** 1- Xác định cấu trúc tinh thể lập phương: Việc xác định cấu trúc tinh thể là rất quan trọng, vì từ đó cho phép ta hiểu được các hiện tượng như biến dạng đàn hồi, hình dạng hợp kim và chuyển pha… Kỹ thuật nhiễu xạ tia x có khả năng xác định được cấu trúc vật rắn kết tinh. (ở đây chỉ xét trường hợp đơn giản là tinh thể lập phương). Ta biết rằng, kích thước và hình dạng của ô đơn vị quyết định vị trí góc của cực đại giao thoa hay là phổ giao thoa ( gọi là pic nhiễu xạ) và sự xắp xếp các nguyên tử trong ô đơn vị quyết định cường độ tương đối của pic. Như vậy có thể tính kích thước, hình dạng ô đơn vị từ vị trí góc của các pic và xác định vị trí nguyên tử trong ô đơn vị từ cường độ các pic nhiễu xạ mà không thông qua bất kì phương pháp trực tiếp nào. Việc xác định cấu trúc tinh thể chưa biết gồm bước sau: - Tính kích thước và hình dạng ô đơn vị từ vị trí của các pic nhiễu xạ. - Tính số nguyên tử thuộc ô đơn vị từ kích thước và hình dạng của ô đơn vị, thành phần hóa học của mẫu và mật độ đo được của nó. - Suy ra các vị trí nguyên tử thuộc ô đơn vị từ cường độ của các pic nhiễu xạ. 2- Xác định chỉ số cho giản đồ nhiễu xạ: Tức là ghi chỉ số Miller chính xác cho mỗi pic trong giản đồ nhiễu xạ. Ta biết rằng, khoảng cách giữa các mặt phẳng d, khoảng cách giữa các mặt lân cận trong tập (hkl) với thông số mạng a của vật liệu có cấu trúc lập phương, có thể được xác định theo công thức sau: 2 2 2 2 1 h k l d a    . Kết hợp với phương trinh Bragg ta có: 2 2 2 2 1 h k l d a    = 2 2 4sin   . Từ đó ta nhận đựơc: sin2 = 2 2 2 2 2 ( )4 h k l a    . Ta thấy rằng 2 24a  là một hằng số cho bất kì ảnh nhiễu xạ nào và sin2 tỷ lệ với (h2+k2+l2) và khi tăng thì mặt phẳng ứng với chỉ số Miller lớn hơn sẽ tham gia nhiễu xạ. Đối với hai mặt phẳng ta có hệ thức: 2 2 2 2 1 1 1 1 2 2 2 2 2 2 2 2 sin sin k h l k h l        , từ đây ta có thể tính được chỉ số ảnh nhiễu xạ (h2+k2+l2) cho mỗi mặt phẳng phản xạ. Ta cũng có thể xác định chỉ số ảnh nhiễu xạ bằng cách đo trực tiếp góc rồi tính (h2+k2+l2) theo công thức trên. 3- Nhận biết mạng Bravais: Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Mạng Bravais có thể nhận biết được bằng cách ghi chú một cách hệ thống các phản xạ có mặt và không có mặt trong ảnh nhiễu xạ, từ đó nhờ phương pháp bột xác định được các giá trị: h2 + k2+ l2, mỗi giá trị tương ứng với bộ (hkl) và tương ứng với mạng tinh thể lập phương. Ta có bảng sau: h2 + k2+ l2 hkl Mạng 1 100 LPĐG 2 110 LPĐG , LPTK 3 111 LPĐG, LPTM 4 200 LPĐG, LPTK, LPTM 5 210 LPĐG 6 211 LPĐG, LPTK 7 LPĐG 8 220 LPĐG, LPTK, LPTM 9 300, 221 LPĐG 10 310 LPĐG, LPTK 11 311 LPĐG, LPTM 12 222 LPĐG, LPTK, LPTM 13 320 LPĐG 14 321 LPĐG, LPTK 15 LPĐG 16 400 LPĐG, LPTK ,LPTM 17 410 , 322 LPĐG 18 411, 330 LPĐG, LPTK 19 331 LPĐG, LPTM 20 420 LPĐG, LPTK, LPTM 21 421 LPĐG 22 332 LPĐG, LPTK 23 LPĐG 24 422 LPĐG, LPTK ,LPTM Nhận xét:- Mạng LPĐG tất cả bộ (hkl) đều cho phản xạ; - Mạng LPTK cho phản xạ ứng với (h2 + k2+ l2) chẵn, không phản xạ nếu lẻ. - Mạng LPTM cho phản xạ nếu h,k và l cùng chẵn hoặc cùng lẻ, còn lại không phản xạ. 3- Tính thông số mạng: Thông số mạng a có thể tính được nhờ công thức: sin2 = 2 2 2 2 2 ( )4 h k l a    Tr­êng THPT Nghi léc 3 GV: Hå Phi C­êng tel: 01683.751.477 **TiÓu luËn nµy dïng cho c¸c häc viªn Cao Häc chuyªn ngµnh VËt lÝ ** Từ đó suy ra: a = 2 2 2 2sin h k l    . ở đây nhờ phương pháp bột, ta xác định được giá trị (h2 + k2+ l2). Còn  bước sóng tia x cho trước,  góc quay hoàn toàn đo được nhờ thước đo góc. CHƯƠNG III: KẾT LUẬN. Ngày nay, với sự phát triển của khoa học kỉ thuật người ta đã chế tạo những máy nhiễu xạ tia x với độ phân giải cao và xây dựng được thư viện đồ sộ về phổ nhiễu xạ của các hợp chất, cho nên chúng ta hiểu được cấu trúc của vật liệu và xâm nhập vào cấu trúc tinh vi của mạng tinh thể, do đó đã tạo được những vật liệu tốt đáp ứng được yêu cầu trong các lĩnh vực khác nhau và phục vụ đời sống con người. Vì vậy, việc nghiên cưu phương pháp nhiễu xạ tia x cũng như việc chế tạo máy nhiễu xạ hiện đại là rất quan trọng trong việc tạo ra những vật liệu mới trên thế giới hiện nay.